真空镀膜机的残余气体分析方法有哪些

真空镀膜机的残余气体分析主要是利用质谱计的模拟扫描模式，在设备的工作质量范围内，通过适当的参数选择，再进行真空设备的全谱扫描，最后将真空设备中的残余气体的全谱图记录下来。通常情况下，扫描高真空设备全谱选择1u-100u的质量范围就够了，对于一些小型质谱计可以选择1u-50u的质量范围。

可用两种方法在质谱图上确定谱峰质量数：计算机控制的四极质谱计给出的谱图是最简单的一种方法了，可直接在质量数坐标轴读出对应峰的质量数。而一些小型四极质谱计没有计算机控制，峰高（离子流）可在记录仪的纵轴读出，走纸的长度可在横轴读出。在记录仪的走纸速度一定的情况下，可将横轴看作时间轴。

四极质谱计的扫描模式为线性扫描，因此，可在记录仪的横轴上，按峰间纸的距离将对应峰的质量数计算出来。

在真空设备中可通过离子判别表作简单的残余气体分析，根据峰的质量数，能直接对该峰对应的气体种类进行判定。再通过真空设备中一些常见的残余气体的图形碎片分析设备的气体组分。对于真空设备残余气体谱的识别常用到的规律有：

1、真空设备常见的清洗剂残留物。如丙酮质量数为42、酒精的基准峰质量数为31；

2、对于无油的超高真空设备，甲烷的质量数为16，其成分的出现是因为C、H受到了质谱计热灯丝的表面作用而形成；

3、真空设备烘烤不彻底或者是未经烘烤处理的，真空系统的气体主要成分为水，质谱峰的质量数为17、18和1；

4、设备中的N₂和CO（质量数均为28）的区别可根据碎片图形来确定，氮气碎片对应质量数为14的峰，而质量数为12的峰为一氧化碳的碎片；

5、存在漏气情况的真空设备，可以观察到氧峰非常明显，氧峰质量数为32；

6、没受到油蒸气（碳氢化合物）污染的真空设备的残余气体成分的质量数通常不超过44。无油真空设备的气体为主要成分是惰性气体，如氢气（质谱峰为2）、氩气（质谱峰为40）和二氧化碳（质谱峰为44）。

7、受到油蒸气（碳氢化合物）污染的真空设备，碳氢化合物一组峰会成组地出现，且存在如质量数39、41、43一组峰和55、57一组峰等明显特征峰。

因为一些小型四极质谱计没有计算机控制，所以采用记录仪记录它的模拟峰，所以要通过对残余气体质谱峰的基本了解，综合四极质谱计线性的标度特点，将每个峰的质量数确定下来，再根据质谱峰的质量对真空镀膜机的真空系统气体主要成分、是否漏气、残留清洗物等进行分析。